主要功能：
采用磁控溅射沉积与离子刻蚀相结合，对专用复合材料进行内表面镀膜处理，沉积致密金属涂层。设备配置4套柱状磁控溅射源，设计有电动顶升系统，可以同时对4件柱状管材产品进行镀膜沉积工艺处理，实现复合材料内表面涂层工艺的小批量加工。
技术参数：
真空室：Ø650×750mm
极限真空：≤2×10-4Pa
沉积速率：≥2μm/h
产品规格：Ø145mm×500
产品数量：4件/炉
地址：成都市双流区西航港大道中四段219号
邮编：610207
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